DML:
DML 설계는 직접 변조를 위한 안정적인 작동을 위해 도파관에 회절 격자가 있는 분산 피드백 구조로 구성되며 "분산 피드백" 레이저의 DFB라고도 합니다. DML 레이저의 경우 변조 속도와 전송 거리는 레이저의 스펙트럼 선폭에 따라 다릅니다. 실제로, 선폭이 좁을수록 변조 속도(데이터 속도)가 높아지고 거리가 길어집니다.
기본적으로 주입 전류를 변조하여 광신호에 "1"과 "0"의 시퀀스를 배치하는데, 이는 마치 on/off 전기신호와 같다. 따라서 DML의 설계에서는 레이저를 "켜기"로 켜 "1"을 생성하거나 "끄기"를 켜서 "0"을 생성함으로써 광 신호를 직접 변조하는 전류가 필요합니다. 이 변조된 주입 전류는 외부 IC에서 생성되고 레이저에 적용되어 광학 출력을 생성합니다.
그러나 직접 변조는 굴절률과 같은 레이저 속성을 변경하여 색 분산을 크게 만듭니다. DML의 성능은 더 긴 범위에 걸쳐 저하됩니다(>10km) EML과 비교할 때 더 큰 색 분산, 더 낮은 주파수 응답 및 상대적으로 낮은 소광비로 인해.
DML 자체는 단일 칩이며 작동을 위한 더 간단한 전기 회로 레이아웃을 제공합니다. 따라서 더 컴팩트한 디자인과 더 낮은 전력 소비를 생성합니다.
EML:
EML은 단일 칩에 통합된 전자 흡수 변조기 또는 EAM이라고 하는 외부 변조기와 통합된 레이저입니다.
구조는 DML과 동일합니다. 그러나 DML과 달리 EML은 전기적 측면이 아닌 EMA 측면에서 신호 변조가 있습니다. 이는 전기신호가 광신호를 변조한 EAM 이후 온/오프 전기신호가 인가되는 동안 연속적인 광신호를 발생시키는 것을 의미한다.
DML 설계와 달리 EML 설계는 레이저를 직접 변조하지 않아 레이저 특성을 변경하지 않는다는 이점이 있습니다. EML은 더 작은 색 분산과 고속 작동에서 안정적인 파장으로 인해 더 높은 속도와 더 먼 거리 전송이 필요한 응용 분야에 유리합니다.
EML 설계는 작동을 위해 더 많은 전력과 더 복잡한 전기 레이아웃이 필요합니다.